[반도체 8대공정 집중 과정] - 식각 공정

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NCS 분류:
  
반도체개발(19030601)
  

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강좌구성:
  
11시간 (10강)
수료증:
  
NCS 수료증
수료기준:
  
진도율 80%이상, 시험 2회

신청유형

32,670

수강후기 (13)
과정정보
커리큘럼

수강후기

5.0
13
5
0
4
0
3
0
2
0
1
기본순
  • 수료
    일반
    i****o2023-11-29
    에칭 공정을 자세하게 알려주십니다. 이마저도 기본으로 깔고 들어가고 현재는 더 높은 기술력들이 필요하다는 것에 약간의 절망감을 느낍니다...
  • 수료
    일반
    j****12023-11-21
    식각공정에 대해 자세히 알게 되어 좋았습니다.
  • 수료
    일반
    t******62023-10-31
    수많은 공정 과정 중 식각 공정에만 포커스를 맞춰서 세세하게 배울 수 있었습니다.
  • 수료
    일반
    p*****42023-10-28
    식각공정 이해에 도움돼요

    과정소개

    1. 식각 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

    2. 습식 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.
    3. 건식 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.
    4. 최신 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.

    5. 1~4번의 이해과정 등을 통해 식각 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​

    ​ ​

    *수강시작일이 23.11/28 ~ 24.03.12 과정으로 신청하셨을 경우 ncs직무 표기 수료증이 아닌 일반 수료증으로 발급되는 점 참고하시기 바랍니다 :)

    학습대상

    1. 반도체, 식각 공정 관련 직무 종사자

    2. 반도체 분야, 식각 공정에 관심이 있는 자​ 

    학습목표

    1. 식각 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

    2. 습식 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.
    3. 건식 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.
    4. 최신 식각 공정에 대하여 설명할 수 있다.

    5. 1~4번의 이해과정 등을 통해 식각 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​

    ​ 

    교수소개

     서재범

     

    前 SK하이닉스 수석연구원 15년 이상 경력

    前 SK하이닉스 전공면접관 출신

    前 SK하이닉스 사내대학 강의 경력 有

    前 L반도체, S반도체 총 14년 이상 경력​ ​​

학습내용

차시내용
1차시식각 공정 개요
2차시습식 식각 공정
3차시건식 식각 공정 기초(1) - 진공기술
4차시건식 식각 공정 기초(2) - 플라즈마 기술
5차시건식 식각 공정의 원리와 특성
6차시건식 식각 공정 주요 식각 설비
7차시건식 식각 공정 인자 영향
8차시주요 소재별 건식 식각 특성
9차시최신 식각 공정
10차시식각 공정 실무

수료기준

수료기준
총 진도율중간평가최종평가과제
80% 이상평가비율 20% 반영평가비율 80% 반영-
반영된 평가 합산 60 이상