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반도체 공정기초 및 양산설비

사업주    모바일
학습시간: 12시간 (총11강) 수강료: 35,640원
NCS 분류:
반도체장비(19030603) 강의 더보기
강좌구성:
12시간 (11강)
수강기간:
30일
수료기준:
진도율 80%이상, 시험 2회, 과제 0회

신청유형

학습기간

수강료 35,640
총 결제금액 35,640
  • 과정소개

    - 산화 공정, CVD, PVD, Etching등에 대하여 학습내용입니다.

  • 학습대상

    - 반도체 제조 장비 관련 직무 종사자 

  • 학습목표

    - 반도체 공정기초에 대해 설명할 수 있다.

    - 반도체 양산설비에 대해 설명할 수 있다.​ 

  • 교수소개

    김 준 성

     

    [경력]

    - 현)한국반도체기술교육원​

     

    - 삼성전자 주식회사/공정기술기룹(기술원)

  • 학습내용
    차시 내용
    1차시 반도체 Fab과 Utility
    2차시 산화공정
    3차시 CVD
    4차시 PECVD
    5차시 LPCVD
    6차시 APCVD와 HDPCVD
    7차시 MOCVD와 ALD
    8차시 PVD
    9차시 Photo Lithography
    10차시 Etching
    11차시 Wet Etching과 반도체 설비 동향
  • 평가기준
    평가항목 진도율 시험 과제 진행단계평가 수료기준
    평가비율 - 80% 0% 20% -
    수료조건 80% 이상 0점 이상 0점 이상 0점 이상 60점 이상