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[반도체실무과정] 8대공정 CVD

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학습시간: 9시간 (총8강) 수강료: 26,730원
NCS 분류:
반도체제조(19030602) 강의 더보기
강좌구성:
9시간 (8강)
수강기간:
30일
수료기준:
진도율 80%이상, 시험 2회, 과제 0회

신청유형

학습기간

수강료 26,730
총 결제금액 26,730
  • 과정소개

    - CVD의 정의 및 원리, CVD 막의 형성 방법, 막의 형성 매카니즘에 대항여 설명합니다.

    - CVD 공정의 특징과 증착되는 막질 종류에 대해 설명합니다.

    - ALD 반응증착이 기존 CVD 방식과 다른 점을 설명합니다.

  • 학습대상

    - 반도체 제조 공정 관련 직무 종사자 

  • 학습목표

    - CVD 공정의 학습 과정을 설명할 수 있다.

    - CVD 공정의 정의와 원리를 설명할 수 있다.

    - CVD 방식의 종류와 장단점을 설명할 수 있다.

    - CVD 막의 종류를 설명할 수 있다.​ 

  • 교수소개 엄 중 섭

     

    [경력]

    - 현)한국반도체기술교육원​

    - 삼성전자주식회사/SOC PIE그룹(E6 수석)​​
  • 학습내용
    차시 내용
    1차시 CVD 과정 소개
    2차시 CVD의 용어
    3차시 CVD의 정의 및 원리
    4차시 CVD 방식의 종류와 장단점 (1)
    5차시 CVD 방식의 종류와 장단점 (2)
    6차시 CVD 막의 종류
    7차시 MOCVD
    8차시 CVD 불량 사례와 CVD 엔지니어의 직무
  • 평가기준
    평가항목 진도율 시험 과제 진행단계평가 수료기준
    평가비율 - 80% 0% 20% -
    수료조건 80% 이상 0점 이상 0점 이상 0점 이상 60점 이상