신청유형
35,000 원
강의당 수강 시간이 길지 않아 부담스럽지 않았고 많은 것을 배울 수 있어서 좋았습니다. 단, 기초 지식이 없다면 어렵게 느껴질 거 같습니다.
감사합니다!
반도체 공정 전반에 대해 지식을 쌓을 수 있었습니다. 이를 기반으로 공정 공부를 이어나갈 수 있을 것 같습니다.
반도체 공부를 하시는 분들께 추천해 드리고 싶습니다. 저는 학부 생활 중 반도체소자와 반도체 공정 수업을 개인 사정으로 듣지 못했었습니다. 그래서 간단하게라도 들을 수 있는 강의를 찾다가 반도체 실무 온라인 실습 과정 교육을 찾게 되었습니다. 강의를 들으면서 이 교육에 다양한 장점이 있다는 것을 느꼈습니다. 첫째로는 강의 하나당 시간이 약 10분 정도로 짧은 것이 좋았습니다. 온라인 강의 특성상 너무 길면 오히려 집중력도 떨어지고 그에 따라서 공부하는데 어려움이 있을 수 있다고 생각하기에 이렇게 적절하게 짧은 강의 시간이 공부하기에 좋았습니다. 두 번째는 넉넉한 시간 동안 강의를 볼 수 있다는 것입니다. 개인 사정으로 인해서 1~2주 정도 강의를 듣지 못했지만, 한 달이라는 넉넉한 시간은 강의를 듣는 데 큰 어려움이 없었습니다. 또한, 이후 1년 동안 강의를 다시 볼 수 있다는 것에서 추후 반복을 통한 공부를 할 수 있을 것으로 생각해서 좋다고 생각합니다. 세 번째로는 강사님의 강의가 좋았습니다. 좋은 목소리와 어렵지 않은 설명을 통해서 충분히 이해할 수 있었고 만약 어려운 부분이 있다면 직접 질문을 할 수 있다는 부분이 굉장히 마음에 들었습니다. 그리고 강의자료를 배포해 주셔서 더 편하게 공부할 수 있었습니다. 개인적으로 만족스러운 교육이었고 처음 인터넷으로 국비 지원을 받은 강의를 들은 것이었는데 후회하지 않았으며 앞으로도 이런 강의를 찾아서 듣고 싶다고 생각하게 되었습니다.
1)반도체 소자 및 주요 공정의 기초부터 실전까지 탄탄히 배우고 싶은 자
1) 반도체 물성과 소자에 대해 이해 할 수 있다.
<김형섭>
-경력: 25년
- 前 삼성전자 반도체연구소 그룹장
- 前 삼성전자 반도체연구소 수석연구원
- 前 삼성전자 반도체연구소 선행개발그룹장
- 前 삼성전자 사내강사 및 전공면접관
- KAIST 공학과 학사/석사/박사
차시 | 내용 |
---|---|
1차시 | 반도체물성 - Si원자와 에너지 개념 |
2차시 | 반도체물성 - 에너지 밴드 |
3차시 | 반도체물성 - 진성/외인성 반도체 |
4차시 | 반도체물성 - 페르미레벨과 캐리어농도 |
5차시 | 반도체물성 - 평형상태의 캐리어생성과 과잉캐리어 |
6차시 | 반도체물성 - 반도체 내의 전류 |
7차시 | 반도체소자 - 경사 불순물 분포 |
8차시 | 반도체소자 - 열평형 상태의 다이오드 |
9차시 | 반도체소자 - 순/역방향 다이오드 |
10차시 | 반도체소자 - MOSFET |
11차시 | ★실습과제★ 반도체 소자 |
12차시 | 포토 공정의 개요 |
13차시 | 포토 공정 흐름 |
14차시 | 포토 레지스트 |
15차시 | 노광 공정 |
16차시 | 해상도 개선기술-파장 |
17차시 | 해상도 개선기술-NA |
18차시 | 해상도 개선기술-공정 Parameter |
19차시 | 최신 포토기술-EUV(1) |
20차시 | 최신 포토기술-EUV(2) |
21차시 | ★실습과제★ 포토공정 |
22차시 | 식각 공정의 개요 |
23차시 | 습식 식각 공정 |
24차시 | 건식 식각 공정 기초(1) |
25차시 | 건식 식각 공정 기초(2) |
26차시 | 건식 식각 공정의 원리 |
27차시 | 건식 식각 공정 주요 식각 설비 |
28차시 | 건식 식각 공정 인자 영향 |
29차시 | 주요 소재별 건식 식각 특성 |
30차시 | 최신 식각 공정 |
31차시 | 식각 공정 실무 |
32차시 | ★실습과제★ 식각공정 |
33차시 | 박막 증착 공정의 개요(1) |
34차시 | 박막 증착 공정의 개요 (2) |
35차시 | 물리적 기상 증착 공정(PVD) |
36차시 | 화학적 기상 증착 (CVD) (1) |
37차시 | 화학적 기상 증착 (CVD) (2) |
38차시 | 화학적 기상 증착 (CVD) (3) |
39차시 | 화학적 기상 증착 (CVD) (4) |
40차시 | 원자층 증착 공정 (ALD) (1) |
41차시 | 원자층 증착 공정 (ALD) (2) |
42차시 | 박막 공정 실무 |
43차시 | ★실습과제★ 박막과정 |
수료기준 | ||||
---|---|---|---|---|
총 진도율 | 중간평가 | 최종평가 | 과제 | |
80% 이상 | - | - | 평가비율 100% 반영 | |
반영된 평가 합산 0점 이상 |