[반도체 8대공정 집중 과정] - 포토 공정

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교육 과정 사진
강좌구성:
  
10시간 (9강)
수료증:
  
발급 가능
수료기준:
  
진도율 80%이상, 시험 2회

신청유형

29,700

수강후기 (15)
과정정보
커리큘럼

수강후기

5.0
15
5
0
4
0
3
0
2
0
1
기본순
  • 수료
    일반
    j****12023-11-21
    포토공정에 대해 자세히 알게 되어 좋았습니다.
  • 수료
    일반
    t******62023-10-31
    포토 공정에 대해서 집중적으로 배울 수 있어서 유익했습니다. 강의 차수도 적고 강의 시간도 짧아서 듣기에 부담이 없었습니다.
  • 수료
    일반
    p*****42023-10-28
    포토공정 이해에 도움돼요
  • 수료
    일반
    c*****42023-10-17
    포토공정에 대해 자세하게 알 수 있었습니다!

    과정소개

    1. 포토 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

    2. 포토 공정의 흐름에 대하여 설명할 수 있다.

    3. 포토 레지스트에 대하여 설명할 수 있다.

    4. 노광 공정에 대하여 설명할 수 있다.

    5. 해상도 개선 기술에 대하여 설명할 수 있다.

    6. 최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography에 대하여 설명할 수 있다.

    7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 포토 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​ ​


    해당 과정은 NCS 직무 표기 수료증이 아닌 [일반 수료증]으로 발급되는 점 참고하시기 바랍니다.

    학습대상

    1. 반도체, 포토 공정 관련 직무 종사자

    2. 반도체 분야, 포토 공정에 관심이 있는 자​ 

    학습목표

    1. 포토 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

    2. 포토 공정의 흐름에 대하여 설명할 수 있다.

    3. 포토 레지스트에 대하여 설명할 수 있다.

    4. 노광 공정에 대하여 설명할 수 있다.

    5. 해상도 개선 기술에 대하여 설명할 수 있다.

    6. 최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography에 대하여 설명할 수 있다.

    7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 포토 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​ 

    교수소개

    서재범

     

    前 SK하이닉스 수석연구원 15년 이상 경력

    前 SK하이닉스 전공면접관 출신

    前 SK하이닉스 사내대학 강의 경력 有

    前 L반도체, S반도체 총 14년 이상 경력​ ​

학습내용

차시내용
1차시포토 공정 개요
2차시포토 공정 흐름
3차시포토 레지스트
4차시노광 공정
5차시해상도 개선 기술 (1)
6차시해상도 개선 기술 (2)
7차시최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography(1)
8차시최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography(2)
9차시포토 공정 실무

수료기준

수료기준
총 진도율중간평가최종평가과제
80% 이상평가비율 20% 반영평가비율 80% 반영-
반영된 평가 합산 60 이상