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[반도체 8대공정 집중 과정] - 포토 공정
모바일NCS
수강후기 (18)
과정정보
커리큘럼
수강후기
기본순
- 일반d********42024-07-25
- 수료일반f*******42024-07-04
- 수료일반a******52024-06-21
포토 공정에 대해 자세히 알 수 있어서 좋아요.
- 수료일반j****12023-11-21
포토공정에 대해 자세히 알게 되어 좋았습니다.
과정소개
1. 포토 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.
2. 포토 공정의 흐름에 대하여 설명할 수 있다.
3. 포토 레지스트에 대하여 설명할 수 있다.
4. 노광 공정에 대하여 설명할 수 있다.
5. 해상도 개선 기술에 대하여 설명할 수 있다.
6. 최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography에 대하여 설명할 수 있다.
7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 포토 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.
*23.10~24.03 기간내에 수강하셨을 경우 해당 과정은 NCS 직무 표기 수료증이 아닌 [일반 수료증]으로 발급되는 점 참고하시기 바랍니다.
학습대상
1. 반도체, 포토 공정 관련 직무 종사자
2. 반도체 분야, 포토 공정에 관심이 있는 자
학습목표
1. 포토 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.
2. 포토 공정의 흐름에 대하여 설명할 수 있다.
3. 포토 레지스트에 대하여 설명할 수 있다.
4. 노광 공정에 대하여 설명할 수 있다.
5. 해상도 개선 기술에 대하여 설명할 수 있다.
6. 최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography에 대하여 설명할 수 있다.
7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 포토 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.
교수소개
서재범
前 SK하이닉스 수석연구원 15년 이상 경력
前 SK하이닉스 전공면접관 출신
前 SK하이닉스 사내대학 강의 경력 有
前 L반도체, S반도체 총 14년 이상 경력
학습내용
| 차시 | 내용 |
|---|---|
| 1차시 | 포토 공정 개요 |
| 2차시 | 포토 공정 흐름 |
| 3차시 | 포토 레지스트 |
| 4차시 | 노광 공정 |
| 5차시 | 해상도 개선 기술 (1) |
| 6차시 | 해상도 개선 기술 (2) |
| 7차시 | 최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography(1) |
| 8차시 | 최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography(2) |
| 9차시 | 포토 공정 실무 |
수료기준
| 수료기준 | ||||
|---|---|---|---|---|
| 총 진도율 | 중간평가 | 최종평가 | 과제 | |
| 80% 이상 | 평가비율 20% 반영 | 평가비율 80% 반영 | - | |
| 반영된 평가 합산 60점 이상 | ||||