[반도체 8대공정 집중 과정] - 박막 증착 공정

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NCS 분류:
  
반도체개발(19030601)
  

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강좌구성:
  
10시간 (9강)
수료증:
  
NCS 수료증
수료기준:
  
진도율 80%이상, 시험 2회

신청유형

29,700

수강후기 (15)
과정정보
커리큘럼

수강후기

5.0
15
5
0
4
0
3
0
2
0
1
기본순
  • 수료
    일반
    j****12023-11-21
    박막증착공정에 대해 자세히 알게 되어 좋았습니다.
  • 수료
    일반
    t******62023-10-31
    박막 공정에 대해서 집중적으로 배울 수 있어서 유익했습니다. 강의 차수도 적어서 부담이 안 되었습니다.
  • 수료
    일반
    p*****42023-10-28
    증착공정 이해에 도움돼요
  • 수료
    일반
    c*****42023-10-17
    박막증착공정에 대해 자세하게 알 수 있었습니다!

    과정소개

    1. 박막 증착 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

    2. 진공 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

    3. 플라즈마 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

    4. 물리적 기상 증착 (PVD)에 대하여 설명할 수 있다.

    5. 화학적 기상 증착 (CVD)에 대하여 설명할 수 있다.

    6. 원자층 증착 (ALD)에 대하여 설명할 수 있다.

    7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 박막 증착 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​ ​

    23.10~24.03월 기간동안 수강하였을경우에는 해당 과정은 NCS 직무 표기 수료증이 아닌 [일반 수료증]으로 발급되는 점 참고하시기 바랍니다.

    학습대상

    1. 반도체 개발, 박막 증착 공정 관련 직무 종사자

    2. 반도체 분야, 박막 증착 공정에 관심이 있는 자​ 

    학습목표

    1. 박막 증착 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

    2. 진공 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

    3. 플라즈마 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

    4. 물리적 기상 증착 (PVD)에 대하여 설명할 수 있다.

    5. 화학적 기상 증착 (CVD)에 대하여 설명할 수 있다.

    6. 원자층 증착 (ALD)에 대하여 설명할 수 있다.

    7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 박막 증착 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​ 

    교수소개

    서재범

     

    前 SK하이닉스 수석연구원 15년 이상 경력

    前 SK하이닉스 전공면접관 출신

    前 SK하이닉스 사내대학 강의 경력 有

    前 L반도체, S반도체 총 14년 이상 경력​ ​

학습내용

차시내용
1차시박막 증착 공정 개요
2차시진공 기술 기초
3차시플라즈마 기술 기초
4차시물리적 기상 증착 (PVD)
5차시화학적 기상 증착 (CVD) (1)
6차시화학적 기상 증착 (CVD) (2)
7차시원자층 증착 (ALD) (1)
8차시원자층 증착 (ALD) (2)
9차시박막 공정 실무

수료기준

수료기준
총 진도율중간평가최종평가과제
80% 이상평가비율 20% 반영평가비율 80% 반영-
반영된 평가 합산 60 이상