#반도체 #장비엔지니어 #FAB #윈스펙 #이공계
반도체 클린룸의 이해
- 클린룸 : 반도체 /바이오/이차전지 등의 초미세 혹은 초청정 환경을 요구하는 제품을 공정하는 매우 초순수 환경의 FAB
- 반도체 업계에서는 청정도를 ‘클래스(class)’ 단위로 구분해 관리
*클래스 : 단위 공간(1m³) 내의 CFU(Colony Forming Unit)입자 농도에 의해 결정
ex) class 1000 : 0.1 마이크로 미터의 크기를 가진 부유 입자가 1m^3의 단위 공간 안에 1000개 이하로 존재하는 청정도의 등급
⇒ 해당 청정도 기준은 ISO로 기준이 잡혀있
- 주요 구성 요소
1)공조 시스템
2)양압 및 음압 제어(외부 오염 물질 차단)
- 구성
(1) 스막룸 : 방진복을 입는 장소
(2) HDFU : 천정대용
(3) FFU : 천정대용
(4) 댐퍼 : 실내 정압 유지 및 흐름 방향 규제해 공기 차압을 제어하는 기기
(5) 에어샤워 : 클린룸 입실 전 신체의 Particle 등을 제거하는 시스템
반도체 팹 구조의 이해
- 3개의 층이 하나의 팹으로 구성
→ 1,2층은 SUB, 3층은 MAIN 즉, 1, 2층은 3층의 장비가동을 서포트하는 층
→ 2층은 Utility 층
→ 1층은 Pump단 위치
- FAB : 실제 반도체를 양산하는 메인 설비가 있는 곳
→ CFS(Clean Sub Fab) : 설비들이 작동하는데 필요한 부대 설비들로 구성
→ FSF(Facility Sub Fab)
- Sub Fab의 주요 역할
(1) 가스 공급 시스템
(2) 화학물질 관리
(3) 진공 및 배기 시스템
(4) 전력 및 냉각 시스템
- 느낀 점 : 반도체 내에서 클린룸의 중요성과 클린룸의 내부 구성에 대해 알 수 있었다. 반도체와 같은 고정밀 제품을 위해서 ISO 기준 등 여러 기준들에 맞춰 환경을 조성해야 그만큼 높은 품질의 제품을 생산할 수 있다는 것을 다시 한 번 배울 수 있었고, 반도체 생산환경에 대해 자세히 알 수 있었다.
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