윈스펙 2일차 교육에서는 반도체 제조의 핵심 공간인 클린룸(Cleanroom)과 팹(FAB)의 구조에 대해 깊이 있게 학습했습니다. 나노 단위의 미세 공정이 진행되는 만큼, 아주 작은 먼지 하나도 치명적일 수 있다는 점에서 청정도 관리의 중요성을 다시 한번 실감했습니다.
특히 인상 깊었던 점은 청정도를 나타내는 '클래스(Class)'의 개념과 이를 유지하기 위한 정교한 시스템이었습니다. 공조 시스템(HVAC)을 통해 HEPA/ULPA 필터로 미세 입자를 걸러내고, 내부 압력을 외부보다 높게 유지하는 양압 제어를 통해 오염 물질의 유입을 원천 차단하는 원리가 매우 흥미로웠습니다.
또한, 단순히 장비가 배치된 공간으로만 생각했던 FAB이 Main FAB과 이를 지원하는 Sub FAB(CSF, FSF)으로 층별화되어 유기적으로 작동한다는 사실을 새롭게 알게 되었습니다. 장비 가동에 필수적인 가스, 화학물질, 진공, 전력 및 냉각 인프라가 하부 층에서 끊임없이 서포트해 주어야만 비로소 반도체 생산이 가능하다는 점을 깨달았습니다.
이번 강의를 통해 장비 엔지니어는 단순히 개별 장비의 메커니즘을 아는 것을 넘어, 장비가 운용되는 클린룸 환경과 복합적인 유틸리티 인프라에 대해서도 해박한 지식을 갖추어야 한다는 것을 배웠습니다. 2일차 학습을 통해 엔지니어로서 갖춰야 할 시야가 한층 더 넓어진 것 같아 매우 보람찬 시간이었습니다.
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