[학습내용]
반도체 클린룸 및 팹 내부에 대해 이해하는 시간을 가졌습니다. 클린룸의 청정도 기준은 클래스 단위로 관리됩니다. 클래스란, 단위 공간(1m^3) 내 CFU 입자 농도에 의해 결정되며 클래스 1000의 경우, 1m^3 내 0.5um이상 크기의 입자를 기준으로 관리합니다. 공조 시스템으로는 HEPA 필터, ULPA 필터 등이 있으며 양압 및 음압 제어도 필요합니다. 반도체 제조 클린룸은 양압 유지를 통해 외부 오염 물질 차단 관리가 필요합니다. 반도체 팹은 1층,2층,3층으로 나뉘어져 있으며 1층의 경우 주로 진공 시스템의 핵심적인 역할을 하는 PUMP단이 위치하고 있습니다. 2층은 설비들이 작동하는데 필요한 부대 설비들로 구성되며 전원을 안정적으로 공급해주는 Generator, 초순수 공급을 위한 칠러, 가스 등이 있습니다. 또한, 클래스 관리가 엄격한 곳은 아닙니다. 3층은 메인 팹으로 청정도 관리가 철저히 되는 공간입니다.
[배운 점]
방진복 등 작업복 교체하는 공간을 스막룸이라고 명칭하는 것을 알게 되었으며, 메인팹과 서브팹으로 나뉘는 건 알고 있었지만, 서브 팹을 CSF, FSF 등의 세부 명칭이 있다는 것을 알 수 있는 좋은 계기였습니다. CSF는 Clean Sub Fab의 약자이며, 양산이 이뤄지는 메인 설비들이 있는 곳으로 한 층이 각 기술팀 별 Area가 나눠져 설비가 위치하게 됩니다. FSF는 Facility Sub Fab의 약자이며, CSF 하부층에 존재합니다. 해당 층에는 PR Room, Pump, Scrubber 등의 설비들이 배치되어 있고, class 관리가 엄격한 곳은 아닙니다.
