팹은 'Fabrication Facility'의 줄임말로, 실리콘 웨이퍼 위에 미세하고 복잡한 전자 회로를 새겨 최종적인 반도체 칩을 만들어내는 첨단 제조 공장 전체를 의미
반도체 팹 내부에서 실제로 핵심 제조 공정이 진행되는 초청정 작업 공간을 클린룸
반도체 클린룸은 1세제곱피트 공간당 0.5마이크로미터 크기의 먼지가 1개 이하로 관리되는 'Class 1' 수준의 극단적인 청정도를 유지
3층은 메인 클린룸영역입니다. 이곳은 실리콘 웨이퍼에 미세한 회로를 그리는 핵심 제조 공정이 실제로 이루어지는 심장부입니다. 노광, 식각, 박막 증착, 세정 등 수조 원을 호가하는 첨단 메인 장비들이 배치
2층은 서브 플래넘 연결 구역입니다. 3층 클린룸의 하부이자 1층 서브 팹의 상부로서, 상하부 간의 공기 순환과 복잡한 배관 및 케이블을 유기적으로 연결하는 완충 공간 역할
1층은 서브 팹 영역입니다. 3층의 메인 장비들이 안정적으로 구동될 수 있도록 동력과 유틸리티를 지원하는 핵심 후방 공간
3층 클린룸의 청정하고 정적인 환경 이면에는, 1층 서브 팹에서 엄청난 소음과 진동을 견디며 초고진공을 유지하고 유독가스를 정화하는 설비들과 엔지니어들의 치열한 후방 지원이 필수적임을 깨달았습니다.
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