오늘은 반도체 생산의 핵심 공간인 클린룸과 팹(Fab)의 다층 구조에 대해 학습했습니다. 클린룸은 나노 단위 공정을 위해 파티클, 온·습도, 압력을 정밀하게 제어하는 환경으로, 단위 부피당 먼지 수인 '클래스(Class)'로 청정도를 관리한다는 점이 인상적이었습니다. 특히 포토 공정(ISO 3)처럼 미세 공정일수록 더 높은 청정도가 요구됨을 알게 되었습니다.
또한, 효율적인 설비 운영을 위한 팹의 3층 구조를 이해했습니다. 실제 장비가 위치한 3층(Main Fab), 전력과 온도를 제어하는 2층(Sub-Fab), 진공 펌프와 스크러버가 위치한 1층(FSF)의 유기적인 연결 관계를 파악했습니다. FFU(Fan Filter Unit)나 댐퍼와 같은 인프라 시스템이 공정 안정성에 얼마나 중요한지 깨달았습니다
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