[반도체 8대공정 집중 과정] - 박막 증착 공정
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[반도체 8대공정 집중 과정] - 박막 증착 공정

5.0(24개 후기)
NCS 분류
반도체개발(19030601)
강좌 구성
10시간 (9강)
수료증
NCS 수료증
수료 기준
진도율 80%이상, 시험 2회

신청유형

  • 누구나 수강 가능
강의금액29,700원
총 결제금액신청 유형 선택

과정소개

1. 박막 증착 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

2. 진공 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

3. 플라즈마 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

4. 물리적 기상 증착 (PVD)에 대하여 설명할 수 있다.

5. 화학적 기상 증착 (CVD)에 대하여 설명할 수 있다.

6. 원자층 증착 (ALD)에 대하여 설명할 수 있다.

7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 박막 증착 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​ ​

23.10~24.03월 기간동안 수강하였을경우에는 해당 과정은 NCS 직무 표기 수료증이 아닌 [일반 수료증]으로 발급되는 점 참고하시기 바랍니다.

학습대상

1. 반도체 개발, 박막 증착 공정 관련 직무 종사자

2. 반도체 분야, 박막 증착 공정에 관심이 있는 자​ 

학습목표

1. 박막 증착 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

2. 진공 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

3. 플라즈마 기술 기초에 대하여 설명할 수 있다.

4. 물리적 기상 증착 (PVD)에 대하여 설명할 수 있다.

5. 화학적 기상 증착 (CVD)에 대하여 설명할 수 있다.

6. 원자층 증착 (ALD)에 대하여 설명할 수 있다.

7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 박막 증착 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​ 

교수소개

서재범

 

前 SK하이닉스 수석연구원 15년 이상 경력

前 SK하이닉스 전공면접관 출신

前 SK하이닉스 사내대학 강의 경력 有

前 L반도체, S반도체 총 14년 이상 경력​ ​

커리큘럼

10시간 · 9강

10시간총 학습 시간
9차시
0실습 과제
  1. 1박막 증착 공정 개요
    38분
  2. 2진공 기술 기초
    38분
  3. 3플라즈마 기술 기초
    43분
  4. 4물리적 기상 증착 (PVD)
    46분
  5. 5화학적 기상 증착 (CVD) (1)
    34분
  6. 6화학적 기상 증착 (CVD) (2)
    1시간 2분
  7. 7원자층 증착 (ALD) (1)
    32분
  8. 8원자층 증착 (ALD) (2)
    40분
  9. 9박막 공정 실무
    54분

수강 후기

5.0
(24개 후기)
5점
24
4점
0
3점
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2점
0
1점
0
일반 과정u*****3
[반도체 8대공정 집중 과정] - 박막 증착 공정

일반 과정c*****6
[반도체 8대공정 집중 과정] - 박막 증착 공정[H1]

온라인에서 찾기 어려운 실무내용까지 다루어 주셔서 너무 좋았습니다!

수료일반 과정y*****1
[반도체 8대공정 집중 과정] - 박막 증착 공정[H1]

굿

수료일반 과정j********c
[반도체 8대공정 집중 과정] - 박막 증착 공정[H1]

자주하는 질문(FAQ)

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