반도체 클린룸과 팹(FAB)의 구조에 대해 학습하였다.
클린룸은 초미세 공정을 수행하기 위해 매우 높은 수준의 청정도가 요구되는 생산 환경을 의미한다. 특히 반도체 산업에서는 생산라인의 청정도를 '클래스(Class)'라는 기준으로 구분하여 관리한다. 또한 클린룸 환경을 유지하기 위해서는 공기 정화 시스템과 압력 제어 시스템이 매우 중요하다는 것을 알 수 있었다.
반도체 팹은 일반적으로 3개 층으로 구성되며, 1층과 2층은 3층에 위치한 생산 장비의 운영을 지원하는 역할을 수행한다. 또한 팹은 CSF와 FSF로 구성되어 있으며, 내부에는 스막룸(SMAC Room), HEFU, 댐퍼 등 다양한 설비와 공간이 존재한다는 것을 알 수 있었다.
반도체 제조 공정 뒤에는 복잡한 설비와 정교한 환경 관리 시스템이 뒷받침되고 있다는 점을 인상깊었다.
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