[반도체 8대공정 집중 과정] - 포토 공정
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[반도체 8대공정 집중 과정] - 포토 공정

5.0(28개 후기)
NCS 분류
반도체개발(19030601)
강좌 구성
10시간 (9강)
수료증
NCS 수료증
수료 기준
진도율 80%이상, 시험 2회

신청유형

  • 누구나 수강 가능
강의금액29,700원
총 결제금액신청 유형 선택

과정소개

1. 포토 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

2. 포토 공정의 흐름에 대하여 설명할 수 있다.

3. 포토 레지스트에 대하여 설명할 수 있다.

4. 노광 공정에 대하여 설명할 수 있다.

5. 해상도 개선 기술에 대하여 설명할 수 있다.

6. 최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography에 대하여 설명할 수 있다.

7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 포토 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​ ​



*23.10~24.03 기간내에 수강하셨을 경우 해당 과정은 NCS 직무 표기 수료증이 아닌 [일반 수료증]으로 발급되는 점 참고하시기 바랍니다.

학습대상

1. 반도체, 포토 공정 관련 직무 종사자

2. 반도체 분야, 포토 공정에 관심이 있는 자​ 

학습목표

1. 포토 공정의 개요에 대하여 설명할 수 있다.

2. 포토 공정의 흐름에 대하여 설명할 수 있다.

3. 포토 레지스트에 대하여 설명할 수 있다.

4. 노광 공정에 대하여 설명할 수 있다.

5. 해상도 개선 기술에 대하여 설명할 수 있다.

6. 최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography에 대하여 설명할 수 있다.

7. 1~6번의 이해과정 등을 통해 포토 공정 실무에 대한 업무프로세스와 문제 시 해결방안을 제시할 수 있다.​ 

교수소개

서재범

 

前 SK하이닉스 수석연구원 15년 이상 경력

前 SK하이닉스 전공면접관 출신

前 SK하이닉스 사내대학 강의 경력 有

前 L반도체, S반도체 총 14년 이상 경력​ ​

커리큘럼

10시간 · 9강

10시간총 학습 시간
9차시
0실습 과제
  1. 1포토 공정 개요
    34분
  2. 2포토 공정 흐름
    38분
  3. 3포토 레지스트
    42분
  4. 4노광 공정
    52분
  5. 5해상도 개선 기술 (1)
    32분
  6. 6해상도 개선 기술 (2)
    37분
  7. 7최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography(1)
    46분
  8. 8최신 포토 공정 기술 - EUV Lithography(2)
    36분
  9. 9포토 공정 실무
    54분

수강 후기

5.0
(28개 후기)
5점
28
4점
0
3점
0
2점
0
1점
0
일반 과정c*****6
[반도체 8대공정 집중 과정] - 포토 공정[H1]

음성pr과 양성pr의 차이, 그리고 실무 내용까지 자세한 수업을 들을 수 있어서 너무 좋았습니다!

수료일반 과정m*********u
　[반도체 8대공정 집중 과정] - 포토 공정

굉장히 도움이 많이 되었어요

수료일반 과정y*****1
[반도체 8대공정 집중 과정] - 포토 공정[H1]

굿

수료일반 과정w********9
[반도체 8대공정 집중 과정] - 포토 공정[H1]

자주하는 질문(FAQ)

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